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硅片切割一般有什么難點(diǎn)?

國產(chǎn)劃片機(jī) 2021-03-15

  硅片切割一般有什么難點(diǎn)?

  1、雜質(zhì)線痕:由多晶硅錠內(nèi)雜質(zhì)引起,在切片過程中無法去除,導(dǎo)致硅片上產(chǎn)生相關(guān)線痕。

  2、劃傷線痕:由砂漿中的SIC大顆粒或砂漿結(jié)塊引起。切割過程中,SIC顆粒“卡”在鋼線與硅片之間,無法溢出,造成線痕。

  表現(xiàn)形式:包括整條線痕和半截線痕,內(nèi)凹,線痕發(fā)亮,較其它線痕更加窄細(xì)。

  3、密布線痕(密集型線痕):由于砂漿的磨削能力不夠或者切片機(jī)砂漿回路系統(tǒng)問題,造成硅片上出現(xiàn)密集線痕區(qū)域。

  4、錯位線痕:由于切片機(jī)液壓夾緊裝置表面有砂漿等異物或者托板上有殘余膠水,造成液壓裝置與托板不能夾緊,以及托板螺絲松動,而產(chǎn)生的線痕。

  在整個切割過程中,對硅片的質(zhì)量以及成品率起主要作用的是切割液的粘度、碳化硅微粉的粒型及粒度、砂漿的粘度、砂漿的流量、鋼線的速度、鋼線的張力以及工件的進(jìn)給速度等。

  線痕和TTV: 線痕和TTV是在硅片加工當(dāng)中遇到的比較頭疼的事,時不時就會出現(xiàn)一刀,防不勝防。TTV是在入刀的時候出現(xiàn),而線痕是在收線弓的時候容易出現(xiàn)。

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